從作用方向上來看。薄膜應(yīng)力有張應(yīng)力和壓應(yīng)力之分。若薄膜具有沿膜面膨脹的趨勢則基底對薄膜產(chǎn)生壓應(yīng)力,如圖1-2-1(a)所示;相反,薄膜沿膜面的收縮趨勢造成張應(yīng)力,如圖1-2-1(b)所示。一般定義張應(yīng)力為正應(yīng)力,壓應(yīng)力為負(fù)應(yīng)力。過...[繼續(xù)閱讀]

    在薄膜中取一個微區(qū),其大小為Δx,Δy,Δz,如圖1-2-4所示[3,4]。圖1-2-4　薄膜中微區(qū)應(yīng)力取向示意圖在受力狀態(tài)下,一般可以表現(xiàn)為6個正應(yīng)力(應(yīng)力方向與坐標(biāo)軸平行,分別為σx,σy,σz,σ-x,σ-y,σ-z)和6個切應(yīng)力(取向位于坐標(biāo)軸垂直的平面內(nèi)...[繼續(xù)閱讀]

    薄膜的內(nèi)應(yīng)力主要來源于薄膜本身微結(jié)構(gòu)的變化,這種變化包含以下幾層含義:①薄膜與相應(yīng)的薄膜材料具有相同的晶系,但是受沉積參數(shù)及其他因素的影響,薄膜的晶格常數(shù)或晶胞結(jié)構(gòu)發(fā)生了變化;②相對于體材料,薄膜具有多孔、低維...[繼續(xù)閱讀]

    1.2.4.1　薄膜應(yīng)力形成的主要機(jī)制在薄膜材料和基底材料確定以后,沉積參數(shù)和處理過程是影響薄膜應(yīng)力狀態(tài)的重要因素。表1-2-1為薄膜應(yīng)力的幾種誘因,可以看出,薄膜應(yīng)力的諸多形成和發(fā)展的因素基本都是與薄膜的制備過程相關(guān)[6～...[繼續(xù)閱讀]

    1.2.5.1　多層膜應(yīng)力的物理模型為了實(shí)現(xiàn)特定的光譜性能,光學(xué)薄膜多數(shù)是由多層膜組成。與單層膜不同,多層膜的應(yīng)力發(fā)展涉及多種薄膜材料的熱物參數(shù)的組合及多個界面的力學(xué)匹配問題,其物理過程比單層膜更復(fù)雜。下面對多層膜中...[繼續(xù)閱讀]

    一般條件下,薄膜應(yīng)力的測量都是在薄膜制備以后,甚至是放置了很多天以后進(jìn)行。所得到的薄膜應(yīng)力是薄膜的終態(tài)應(yīng)力,它不僅包含了薄膜應(yīng)力發(fā)生發(fā)展的全部信息,還包含了薄膜制備之后,環(huán)境、時效及所有的物理化學(xué)過程對薄膜應(yīng)力...[繼續(xù)閱讀]

    在一定條件下薄膜的應(yīng)力可以導(dǎo)致薄膜局部破裂,薄膜應(yīng)力破壞表現(xiàn)為以下幾種形式:表面裂紋、表面起皺、局部破坑,膜層脫落。這幾個現(xiàn)象有時是獨(dú)立存在的,更多地表現(xiàn)為薄膜應(yīng)力破壞的幾個相關(guān)聯(lián)的發(fā)展過程。在1.2.5.2節(jié)中,已經(jīng)...[繼續(xù)閱讀]

    [1]TeixeiraV.MechanicalinPVDcoatingduetothepresenceofresidualstress[J].Thinsolidfilms,2001(392):2796-281.[2]竹內(nèi)洋一郎.熱應(yīng)力[M].北京:科學(xué)出版社,1977.[3]LaugierM.Ananalysisofthecantileveredplatemethodofthinfilmintrinsicstressdetermination[J].Thinsolidfilms,1980,66(2):L7...[繼續(xù)閱讀]

    光學(xué)薄膜的膜系結(jié)構(gòu)一般都比較復(fù)雜。在電子計算機(jī)出現(xiàn)以前,一般光學(xué)薄膜性質(zhì)的計算都很難實(shí)現(xiàn),更談不上膜系設(shè)計。所以,早期的薄膜膜系除了層數(shù)很少的減反射或分光膜以外,基本都是以λ/4為基本單元的規(guī)整膜系。計算分析也基...[繼續(xù)閱讀]

    分析設(shè)計法對一些結(jié)構(gòu)簡單且波長數(shù)不多的薄膜是比較有效的。但是對于一些復(fù)雜的光譜要求來講,自動設(shè)計方法在薄膜設(shè)計中的優(yōu)越性是很明顯的。特別在計算技術(shù)和薄膜制備技術(shù)都得到高度發(fā)展的情況下,自動設(shè)計已經(jīng)發(fā)展為主要...[繼續(xù)閱讀]