在分析設(shè)計(jì)和自動(dòng)設(shè)計(jì)有機(jī)結(jié)合的基礎(chǔ)上,原則上可以實(shí)現(xiàn)目前光學(xué)系統(tǒng)所需要的絕大多數(shù)光學(xué)薄膜包括結(jié)構(gòu)非常復(fù)雜的膜系設(shè)計(jì)。一些具體的設(shè)計(jì),在本書后面的章節(jié)中,將結(jié)合光學(xué)薄膜的具體應(yīng)用給出。這里只給出寬帶減反射膜和...[繼續(xù)閱讀]
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在分析設(shè)計(jì)和自動(dòng)設(shè)計(jì)有機(jī)結(jié)合的基礎(chǔ)上,原則上可以實(shí)現(xiàn)目前光學(xué)系統(tǒng)所需要的絕大多數(shù)光學(xué)薄膜包括結(jié)構(gòu)非常復(fù)雜的膜系設(shè)計(jì)。一些具體的設(shè)計(jì),在本書后面的章節(jié)中,將結(jié)合光學(xué)薄膜的具體應(yīng)用給出。這里只給出寬帶減反射膜和...[繼續(xù)閱讀]
[1]唐晉發(fā),鄭權(quán).應(yīng)用薄膜光學(xué)[M].上海:上海科技出版社,1984.[2]唐晉發(fā),顧培夫,劉旭,等.現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)[M].杭州:浙江大學(xué)出版社,2006.[3]DobrowolskiJA,R.A.Kemp.Refinementofopticalmultilayersystemswithdifferentoptimizationprocedures[J].Appl.Opt.,1990,29(19):2876-2...[繼續(xù)閱讀]
2.1.1.1 紫外光的產(chǎn)生及其特性1)星體光很多高溫物體都會(huì)輻射紫外光。太空中溫度超過10000K恒星的輻射光譜,其峰值都在紫外波段。通過研究發(fā)光體的紫外光譜不僅可以得知它們的溫度,還可以有效地提供大氣層中不同元素的成分和狀...[繼續(xù)閱讀]
2.1.2.1 高折射率材料的消光系數(shù)理論上,對于的規(guī)整膜系,多層膜的反射率會(huì)隨著薄膜層數(shù)的增加而無限制地接近100%,而實(shí)際上由于膜材料本身的吸收、散射等影響,多層膜的實(shí)測反射率要比理論值小很多。在這種條件下,高反射膜的反...[繼續(xù)閱讀]
2.1.3.1 355nm高強(qiáng)度激光薄膜355nm是1064nm激光的三倍頻波長,在強(qiáng)激光以及其他領(lǐng)域中,有著重要應(yīng)用。用于這類激光的光學(xué)薄膜,不僅要求具有優(yōu)良的光學(xué)性能,更要求較高的抗激光強(qiáng)度。相對于基頻薄膜,三倍頻薄膜的破壞問題之所以更...[繼續(xù)閱讀]
[1]BoydIW,ZhangJY.Newlargeareaultravioletlampsourcesandtheirapplications[J].NuclearInstruments&MethodsinPhysicsResearchSectionB-BeamInteractionswithMaterialsandAtoms.1997,121(1-4):349-356.[2]MuamerZukic,DouglasG.Torr,JamesF.Spann,etal..Vacuumultraviol...[繼續(xù)閱讀]
前面說過,軟X射線多層膜的基本理論是建立在一般光學(xué)薄膜的基本理論之上的。但是軟X射線光波振動(dòng)的頻率高、光子能量大,在多層膜中反射的物理模型與普通的光學(xué)薄膜有所不同。幾十年來,極紫外和軟X射線薄膜得到極大的發(fā)展,其...[繼續(xù)閱讀]
2.2.2.1 2~30nm波段,幾種軟X射線多層反射膜的材料對的優(yōu)化設(shè)計(jì)結(jié)果根據(jù)X射線反射膜材料對的一般選擇原則,對幾十種可能的薄膜材料進(jìn)行配對組合,并進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)。從而在不同波段,得到了最佳組合,最佳厚度比,并算出了可能達(dá)到的...[繼續(xù)閱讀]
多層膜實(shí)際所能獲得的光學(xué)特性是與多層膜實(shí)際的結(jié)構(gòu)參數(shù)相關(guān)的,所以,理論設(shè)計(jì)的薄膜反射率總是與實(shí)際測量的結(jié)果有所不同。尤其在X射線波段,這種差別更大。其主要原因包括,膜層厚度的隨機(jī)誤差、膜表面粗糙度、膜層界面的粗...[繼續(xù)閱讀]
軟X射線多層膜的制備較之可見光多層膜有更嚴(yán)格的技術(shù)要求。鍍膜設(shè)備必須做到:①能按原子尺度在鍍膜過程中實(shí)時(shí)控制膜厚;②膜層足夠均勻;③盡量減少界面變粗糙和兩種材料在界面處的滲透擴(kuò)散;④有足夠長的穩(wěn)定時(shí)間以適應(yīng)制備...[繼續(xù)閱讀]