之前有講到濃密D線不良產生的原因是框膠內數(shù)據(jù)線金屬配線通過金球與彩膜側共通電極短路,以下提供一些預防濃密D線發(fā)生的方法。(1)去除數(shù)據(jù)線上方的ITO層(如圖1所示),即使金球與金屬線導通,由于上側無共同電極,也不會發(fā)生短路...[繼續(xù)閱讀]

    一般而言,一片TFT-LCD面板需使用到兩片玻璃基板,分別供作陣列玻璃基板及彩色濾光片之底板使用。通常玻璃基板制造供貨商對于液晶面板組裝廠及其彩色濾光片加工制造廠之玻璃基板供應量之比例為1∶1.1至1∶1.3。LCD所用之玻璃基板...[繼續(xù)閱讀]

    在TN型或者VA型液晶顯示器中,彩膜側需要設置ITO共通電極,與陣列側像素電極形成垂直電場。彩膜側ITO薄膜厚度一般為1500Å左右,而陣列側ITO薄膜厚度一般在500Å左右。同樣是ITO薄膜,為何有如此差異?其實原因很簡單。彩膜側主要...[繼續(xù)閱讀]

    Mask(光掩膜)類似于照相機的底片(如圖1所示),可以多次在玻璃基板上重復相同的圖案,復制比例為1∶1(如圖2所示)。圖1　照片底片與照片的關系圖2　Mask與玻璃基板的關系以8.5代線Mask來看,通過一次曝光形成完整面板圖形,其縱向可以放...[繼續(xù)閱讀]

    WOA(WireonArray)即在陣列基板上配置走線(如圖1所示)。WOA是用來替代FPC來連接Gate及Data側信號,其發(fā)展過程如圖2所示。采用這種方式可以減少面板的重量,降低面板的成本。圖1　WOA布局圖圖2　WOA發(fā)展過程...[繼續(xù)閱讀]

    銅制程是基于現(xiàn)有的鋁制程而言的,其核心是將現(xiàn)有面板中的鋁金屬替換為銅金屬。而使用銅制程主要是因面板的解析度提高,顯示頻率的增加所導致的必然結果(如圖1所示)。圖1　LCD面板尺寸與分辨率關系液晶面板的發(fā)展方向是高分...[繼續(xù)閱讀]

    在制作掩膜板(Mask)的最后,需要在圖層表面裝上保護膜(蒙皮),目的是為了保護Mask上不會吸附灰塵,避免產生曝光不良。雖說裝配了保護膜可以讓掩膜板遠離灰塵,但是灰塵粘附在保護膜上就不會產生曝光問題嗎?答案是顯然的。如圖1所...[繼續(xù)閱讀]

    在LTPSTFT工藝中,如使用NMOS結構,需要在源漏重摻區(qū)域與溝道之間增加LDD(LightlyDopedDrain,輕摻雜漏區(qū))結構,而PMOS則不需要。究其原因,我們整理了一些內容供大家參考。LDD結構是金氧半場效晶體管(MOSFET)為了減弱漏區(qū)電場,以改進熱電子退...[繼續(xù)閱讀]

    在TFT-LCD中,彩膜(CF)有紅、綠、藍三種顏色單元,這三種顏色單元之間由一種黑色不透光的物質填充以防止漏光及影響TFT-LCD光電特性。CF陣列的特性與所采用的處理技術非常密切。CF表面必須要盡可能的光滑才能得到高純度且色散極小...[繼續(xù)閱讀]

    黑色矩陣是沉積在三基色(RGB)圖案之間的不透光的部分,其主要的作用是防止背光泄露,提高顯示對比度,防止混色和增加顏色的純度。在彩膜基板發(fā)展初期,往往采用鉻膜作為黑色矩陣材料。鉻材料具有高遮光性、膜厚薄、穩(wěn)定性高、...[繼續(xù)閱讀]