除了加速離子,等離子體技術(shù)也可以提供外加能量,增加表面遷移率,用低溫沉積方法實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的外延生長(zhǎng)。通過(guò)低能量的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,PECVD),含有低能量離子的高電流等離子體放電可以產(chǎn)生 (共 400 字) [閱讀本文] >>
海量資源,盡在掌握
 除了加速離子,等離子體技術(shù)也可以提供外加能量,增加表面遷移率,用低溫沉積方法實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的外延生長(zhǎng)。通過(guò)低能量的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,PECVD),含有低能量離子的高電流等離子體放電可以產(chǎn)生 (共 400 字) [閱讀本文] >>