在這一節(jié),我們討論化學(xué)氣相沉積(和物理氣相沉積)作為一種沉積方法在微電子工業(yè)中的選擇性應(yīng)用,該沉積方法可以沉積純金屬、半導(dǎo)體、絕緣體和元素混合物。讀者可以參考以下關(guān)于應(yīng)用金屬CVD在集成電路的金屬化工藝中進(jìn)行薄膜 (共 12426 字) [閱讀本文] >>
海量資源,盡在掌握
 在這一節(jié),我們討論化學(xué)氣相沉積(和物理氣相沉積)作為一種沉積方法在微電子工業(yè)中的選擇性應(yīng)用,該沉積方法可以沉積純金屬、半導(dǎo)體、絕緣體和元素混合物。讀者可以參考以下關(guān)于應(yīng)用金屬CVD在集成電路的金屬化工藝中進(jìn)行薄膜 (共 12426 字) [閱讀本文] >>