多次曝光寫制技術(shù)是指對(duì)光纖寫制區(qū)域進(jìn)行多次曝光,以實(shí)現(xiàn)特殊需求的光纖光柵制作。該技術(shù)一般以二次曝光為主。這種技術(shù)很適用于制作均勻及非均勻的特種光纖光柵。1)掩模板二次曝光技術(shù)該技術(shù)要點(diǎn)為:首先,用一不透光擋板沿 (共 480 字) [閱讀本文] >>
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 多次曝光寫制技術(shù)是指對(duì)光纖寫制區(qū)域進(jìn)行多次曝光,以實(shí)現(xiàn)特殊需求的光纖光柵制作。該技術(shù)一般以二次曝光為主。這種技術(shù)很適用于制作均勻及非均勻的特種光纖光柵。1)掩模板二次曝光技術(shù)該技術(shù)要點(diǎn)為:首先,用一不透光擋板沿 (共 480 字) [閱讀本文] >>