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 雕塑薄膜的生長過程與一般薄膜的生長過程有相似之處。但是,由于斜入射沉積的陰影效應(yīng),又有其自身的特點(diǎn)。陰影效應(yīng)是斜入射薄膜結(jié)構(gòu)不同于一般薄膜結(jié)構(gòu)的一個(gè)最重要的原因。如圖2-4-1所示,當(dāng)蒸發(fā)束流傾斜入射時(shí),隨著薄膜的 (共 1362 字) [閱讀本文] >>
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 雕塑薄膜的生長過程與一般薄膜的生長過程有相似之處。但是,由于斜入射沉積的陰影效應(yīng),又有其自身的特點(diǎn)。陰影效應(yīng)是斜入射薄膜結(jié)構(gòu)不同于一般薄膜結(jié)構(gòu)的一個(gè)最重要的原因。如圖2-4-1所示,當(dāng)蒸發(fā)束流傾斜入射時(shí),隨著薄膜的 (共 1362 字) [閱讀本文] >>