
 使用高溫熔化(無氧裂解)技術(shù),用來銷毀硬盤、光盤、U盤、電路板等介質(zhì)。高溫熔爐的工作溫度可依據(jù)銷毀介質(zhì)不同而設(shè)置,從300℃至1700℃不等。300℃用于銷毀光盤等存儲(chǔ)介質(zhì),800℃用于銷毀硬盤等磁性存儲(chǔ)介質(zhì)。同時(shí)設(shè)備配有凈化裝 (共 221 字) [閱讀本文] >>
海量資源,盡在掌握

 使用高溫熔化(無氧裂解)技術(shù),用來銷毀硬盤、光盤、U盤、電路板等介質(zhì)。高溫熔爐的工作溫度可依據(jù)銷毀介質(zhì)不同而設(shè)置,從300℃至1700℃不等。300℃用于銷毀光盤等存儲(chǔ)介質(zhì),800℃用于銷毀硬盤等磁性存儲(chǔ)介質(zhì)。同時(shí)設(shè)備配有凈化裝 (共 221 字) [閱讀本文] >>
開通會(huì)員,享受整站包年服務(wù)
說明: 本文檔由創(chuàng)作者上傳發(fā)布,版權(quán)歸屬創(chuàng)作者。若內(nèi)容存在侵權(quán),請點(diǎn)擊申訴舉報(bào)