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碳摻雜對GaN MIS-HEMT熱阻的調控機制研究

固體電子學研究與進展 頁數(shù): 8 2025-12-25
摘要: 針對封裝GaN MIS-HEMT器件,采用實驗結合仿真(ANSYS Icepak)的方式,系統(tǒng)研究了緩沖層碳摻雜濃度對熱阻的調控機制。通過瞬態(tài)熱測試(T3Ster)獲得了器件的瞬態(tài)熱阻抗曲線和微分、積分函數(shù),建立了基于器件各物理層的5階Cauer型RC熱網絡模型。實驗結果顯示,碳摻雜濃度升高導致結殼熱阻上升9.9%,其中芯片層熱阻增幅達31.2%;仿真結果驗證了碳摻雜可以使緩沖... (共8頁)

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