多光譜硫化鋅高表面質量CMP工藝參數(shù)優(yōu)化研究

摘要： 針對多光譜硫化鋅難以在化學機械拋光中獲得高表面質量的問題，本文圍繞拋光過程中樣品平面度與表面粗糙度的協(xié)同優(yōu)化開展實驗研究。首先通過單因素實驗確定拋光時間，磨粒種類、拋光盤轉速與拋光壓力的合理取值及范圍，在此基礎上采用響應曲面法設計實驗，引入灰色關聯(lián)法分析各參數(shù)及其交互作用對表面形貌的影響。實驗結果表明：拋光盤轉速是影響表面質量的主導因素，其次為拋光壓力和磨粒粒徑。通過模型優(yōu)化確... （共14頁）