雙殼層P(MMA-MPS)/SiO₂/CeO₂核殼復(fù)合磨料制備及其拋光性能研究

摘要： 目的 針對磨料在機械耐用性和化學(xué)拋光效率兩個方面的高需求制備出一種應(yīng)用于KDP晶體等脆性材料拋光的新型雙殼層復(fù)合磨料。方法 采用沸騰體系無皂乳液聚合法合成了3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷（MPS）修飾的P(MMA-MPS)微球作為內(nèi)核，使用溶膠-凝膠法在微球表面包覆SiO₂內(nèi)殼層，通過均勻沉淀法沉積CeO₂外殼層，制備了P(MMA-MPS)/SiO₂/CeO₂雙殼... （共11頁）