珠光體納米摩擦學(xué)行為的分子動(dòng)力學(xué)模擬研究

摘要： 由于獨(dú)特的疊層結(jié)構(gòu)，鐵素體和滲碳體能較好發(fā)揮協(xié)同作用，故珠光體組織表現(xiàn)出優(yōu)異的摩擦學(xué)性能.然而，受試驗(yàn)技術(shù)限制，人們對(duì)珠光體優(yōu)異摩擦學(xué)性能的機(jī)械起源認(rèn)識(shí)仍不全面，尤其是在片層方向和片層厚度對(duì)珠光體摩擦學(xué)行為的影響方面.本文中采用分子動(dòng)力學(xué)模擬方法研究了片層方向和片層厚度對(duì)珠光體劃痕摩擦學(xué)行為的影響.結(jié)果表明：與平行于表面的片層方向相比，垂直于表面的片層方向表現(xiàn)出更優(yōu)異的摩擦學(xué)行... （共11頁(yè)）